ガス浄化: 窒素、酸素、水素と空気の化学的又は物理的方法により不純物を除去し、高純度ガスを取得します。

窒素の浄化: 窒素の浄化の方法は、2 つのカテゴリに分けられます、まず、パラジウム水素化触媒スタンドを通過する一般的な窒素 (purity99-99.9%) 窒素中の酸素と反応して窒素に含まれている微量の酸素を削除、H2o を生成、1 に達することができる最低の酸素濃度 PPm。

第二に、at200℃、使用強い oxidiz ingde 酸化剤は、酸素、酸素 content≤5PPm カーボン assubstrate 燃焼を活性化。

これら 2 種類の浄化装置が熱脱離乾燥装備、生ガス中微量水分を削除、露 point≤ 60 を作る。

水素の水素: が原料の精製に微量酸素と水にはが含まれています、パラジウム触媒触媒方法は引き裂いたに熱乾燥の原理を使用して原料の水素水を移動し、酸素、水素の含まれているを削除する使用ことができます水素を得る酸素 content≤1PPm、露 point≤-60。圧縮空気の浄化: 圧縮空気の浄化方法が露点をユーザーが必要に応じて浄化モードの 3 種類に分けられます。

1.Freeze 乾燥: を使用して冷凍装置圧縮空気に-20 (常圧) を冷却するため、飽和の圧縮空気によって削除されますで凝縮する冷却

水と蒸気大きな粒子に。

2. 熱再生乾燥機: なし

3. 熱再生乾燥機

506 シリーズ高効率的な解消酸化剤、このデバイスは、予熱を介してデバイスと削除の水を窒素ガス発生装置から出力一般的な窒素製品を接続を使用することにより冷却後脱酸および常温乾燥装置。すなわち、デュアル プロセスによって行われる乾燥 1 セットを作業すると、他の再生は、同時にこのように長期操作行うことができます。窒素最終的な精製装置としては、その de-oxygen は、506 シリーズ高効率解消酸化水素触媒を追加を使用します。

仕様: Gasquantity: 200-1000Nm3/h,purification:99.9998%、酸素 content≦2PPm 出力 pressure≥0.5MPa、デュー ポイント temperature≦ 60

注: Forhigherdewpoint、pleasealternativelyformulate。

仕様: ガス quantity:1-150Nm3/h,purification:99.9995%,output pressure≥0.5MPa

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